导航:题目详情 | 答案解析 | 相关问题 | 最新问题 物理气相淀积最基本的两种方法是什么?简述这两种方法制备薄膜的过程。 职业资格 2017-04-28 03:20:09 方法,薄膜 已帮助 人 物理气相淀积最基本的两种方法是什么?简述这两种方法制备薄膜的过程。 热搜:剩余价值生产的两种基本方法 答案解析 难度★★☆ 搜索 本题答案:物理气相淀积:蒸发Evaporation、溅射Sputtering热蒸发法:在真空条件下,加热蒸发源,使原子或分子从蒸发源表面逸出,形成蒸气流并入射到衬底表面,凝结形成固态薄膜。溅射概念与机理:基本原理,真空腔中有一个平行板等离子体反应器,非常类似于简单的反应离子刻蚀系统。将靶材放置在具有最大离子电流的电极上,高能离子将所要淀积的材料从靶材中轰击出来。靶与晶圆片相距十分近(小于10cm),出射原子大部分能被晶圆所收集。 相关问题 1、有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法? 2017-04-27 2、关于确立教育目的依据的两种对立观点是什么?主要代表人物是谁?基本观点是什么? 2019-11-29 3、传统密码算法的两种基本运算是什么? 2022-08-07 4、下面关于几种CVD方法描述正确的是()。 A 等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学 2022-08-23 5、引入虚拟变量的两种基本方式是什么?分别适用于什么情况? 2022-08-30 6、常见的化学气相淀积方法有 2022-09-06