以下各项不属于最常用的金属薄膜制备(Metal Film preparation)方法有:
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以下各项不属于最常用的金属薄膜制备(Metal Film preparation)方法有:
A.PVD(物理气相淀积)
B.Sputtering(溅射)
C.Thermal Oxidation(热氧化)
D.Evaporation(蒸发)

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HPMC
