在光刻工艺中 前烘的主要目的是（）。 A 蒸发掉胶中的有机溶剂成分 使晶圆表面的胶固化 B
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在光刻工艺中，前烘的主要目的是（）。
A、蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面的胶固化
B、缓和在旋转过程中光刻胶膜内产生的应力
C、
防止沾污设备
D、增强光刻胶的粘附性
在光刻工艺中，前烘的主要目的是（）。
A、蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面的胶固化
B、缓和在旋转过程中光刻胶膜内产生的应力
C、 防止沾污设备
D、增强光刻胶的粘附性
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蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面的胶固化;缓和在旋转过程中光刻胶膜内产生的应力;防止沾污设备;增强光刻胶的粘附性