两极间接上射频电源后 两极间等离子体中的正离子轰击靶材 溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜
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两极间接上射频电源后,两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是()
A.直流二级溅射
B.直接三级溅射
C.射频溅射
D.磁控溅射

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射频溅射
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射频溅射