理想MIS(p型半导体衬底)结构中 高频C-V特性在强反型区与低频C-V特性不同的原因是高频条件下_____
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理想MIS(p型半导体衬底)结构中,高频C-V特性在强反型区与低频C-V特性不同的原因是高频条件下______
A.半导体表面附近的空穴不能产生
B.半导体表面附近的电子不能产生
C.半导体表面附近的空穴数量变化跟不上信号变化
D.半导体表面附近的电子数量变化跟不上信号变化
E.半导体发生了深耗尽
F.以上均不是

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