理想MIS(p型半导体衬底)结构中 高频C-V特性在强反型区与低频C-V特性不同的原因是高频条件下_____

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理想MIS(p型半导体衬底)结构中,高频C-V特性在强反型区与低频C-V特性不同的原因是高频条件下______

A.半导体表面附近的空穴不能产生

B.半导体表面附近的电子不能产生

C.半导体表面附近的空穴数量变化跟不上信号变化

D.半导体表面附近的电子数量变化跟不上信号变化

E.半导体发生了深耗尽

F.以上均不是

理想MIS(p型半导体衬底)结构中 高频C-V特性在强反型区与低频C-V特性不同的原因是高频条件下_____

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