题3-1-9 集成电路制造工艺中对刻蚀的要求包括：能得到想要的形状（斜面还是垂直图形)；过腐蚀最小（
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题3-1-9 集成电路制造工艺中对刻蚀的要求包括：能得到想要的形状（斜面还是垂直图形)；过腐蚀最小（一般要求过腐蚀10％，以保证整片刻蚀完全)； ；均匀性和重复性好；表面损伤小和清洁、经济、安全等。
A．各向异性好
B．选择性好
C．各向同性好
D．刻蚀速率快
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选择性好