对于实际的MIS结构 哪些因素会影响MIS结构的C-V特性曲线 使曲线相较于理想MIS结构的C-V特性曲线
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对于实际的MIS结构,哪些因素会影响MIS结构的C-V特性曲线,使曲线相较于理想MIS结构的C-V特性曲线发生偏移?
A.金属和半导体之间存在功函数差
B.绝缘层中存在电荷
C.半导体与绝缘层的界面处存在表面态
D.外加偏压

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金属和半导体之间存在功函数差;绝缘层中存在电荷;半导体与绝缘层的界面处存在表面态
