在干法刻蚀中 适当的掺杂氢原子会降低刻蚀速度 而掺杂氧原子则会提高刻蚀速度。
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1.对不需要刻蚀的材料的高选择比 2.获得可接受的产能的刻蚀速率 3.好的侧壁剖面控制 4.好的片内均匀性 5.低的器件损伤 6.宽的工艺制造窗口
1.对不需要刻蚀的材料的高选择比 2.获得可接受的产能的刻蚀速率 3.好的侧壁剖面控制 4.好的片内均匀性 5.低的器件损伤 6.宽的工艺制造窗口