简述BOE（或BHF)刻蚀SiO2的原理。
原理
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简述BOE(或BHF)刻蚀SiO2的原理。
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本题答案：二氧化硅腐蚀最常见的湿法腐蚀工艺之一是在稀释的HF溶剂中进行的SiO2湿法腐蚀法。常用腐蚀液配比是6：1，10：1，50：1，意味着6份，10份或50份(体积)的水于一份HF混合。发生的总反应如下：SiO2+6HF→H2SiO6+2H2O实际反应时，是腐蚀液中的HF发生电离产生氢离子和氟离子HF←→H++F?六个F?与二氧化硅中的一个Si+4结合生成负二价的六氟硅酸根络离子[(SiF6)2-]，它与两个H+结合，生成六氟硅酸(H2SIF6)。显然反应速率与???和??++的浓度有关，因此在腐蚀过程中通常加入氟化铵(????4??)作为缓冲剂，????4??能够电离生成???以补充随着反应推进而逐渐减少的???数量，并使HF电离平衡向左移动，调节溶液的PH值，以减轻腐蚀液对光刻胶的腐蚀作用。加入????4??的HF溶液称为BOE(bufferedoxideetching)或BHF(bufferedHF.。