导航:题目详情 | 答案解析 | 相关问题 | 最新问题 热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关?淀积速率的测量采用什么办法? 职业资格 2017-04-28 04:53:45 速率,薄膜 已帮助 人 热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关?淀积速率的测量采用什么办法? 热搜:反应速率常数与哪些因素有关 答案解析 难度★★☆ 搜索 本题答案:简述其工作原理。淀积速率与蒸发材料温度腔体形状等因素有关。淀积速率通常用石英晶体速率指示仪测量。所用器件为一个谐振板,它可以在谐振频率下振荡,工作时测量其振荡频率。原理:因为晶体顶部有材料蒸发淀积,所外加的质量将使得频率偏移,由测得的频率移动可得出淀积速率。淀积足够厚的材料后,谐振频率会移动几个百分点,振荡器便会失效,不再出现尖锐谐振。将频率测量系统的输出与机械挡板的控制相连,淀积层厚度可以在很宽的淀积速率范围内得到很好的控制。同时可以将淀积厚度的时间速率变化反馈给坩埚的温度控制,以得到恒定的淀积速率。 相关问题 1、有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法? 2017-04-27 2、对于某种薄膜的CVD过程 淀积温度为900℃ 质量传输系数hG=10cms-1 表面反应速率系数ks=1×107exp( 2017-04-28 3、CVD主要用于金属薄膜材料的淀积。 2022-08-14 4、通过加热 使待淀积的金属原子获得足够的能量 脱离金属表面蒸发出来 在飞行途中遇到硅片 就淀积在 2022-08-15 5、对于已经完成金属化工艺 介质的淀积常常采用LPCVD方法 2022-08-28 6、在现代CMOS工艺中 器件的制造需要在晶片上各种材料的淀积 这些材料主要包括: __________ ______ 2022-08-31