清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和

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  2020-08-10
• 硅片清洗必须按照（)的次序清洗 才能除去硅片表面的油脂 蜡等有机物。 A. 甲苯一丙酮一酒精一
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• 为了去除表面的杂质 缺陷 进一步去除硅片表面微量的损伤层 需要进行的工艺是
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• 刻蚀是用化学方法或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的工艺过程 其基本目标是： 。
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