在现代CMOS工艺中 生产适当类型衬底的晶片制造工艺主要包括的生产工序主要有：__________ _______
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在现代CMOS工艺中，生产适当类型衬底的晶片制造工艺主要包括的生产工序主要有：__________、_____________、_____________、和 等；
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NMOS晶体管是P型硅衬底上的，而PMOS晶体管是做在N型硅衬底上的，通过在硅衬底上制作一块反型区域就能将两种晶体管做在同一个硅衬底上； 两种类型N阱和p阱； NMOS管和PMOS管。