二氧化硅薄膜在半导体器件生产上的应用有() ⑴ 对杂质的掩蔽作用 ⑵ 对器件表面的保护和钝化作用 ⑶
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二氧化硅薄膜在半导体器件生产上的应用有() ⑴ 对杂质的掩蔽作用 ⑵ 对器件表面的保护和钝化作用 ⑶ 用于器件的电绝缘和电隔离 ⑷ 作为电容器的介质材料 ⑸ 作为MOS场效应晶体管的绝缘栅材料
A.⑴⑵
B.⑴⑵⑶
C.⑴⑵⑷⑸
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对杂质的掩蔽作用;对器件表面的保护和钝化作用;用于器件的电绝缘和电隔离;作为电容器的介质材料;作为 MOS 场效应晶体管的绝缘栅材料
