题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。

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题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。

A.设备简单,操作容易

B.所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快

C.生长机理简单

D.工艺重复性不够理想

题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。

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