高压耗尽射频等离子体增强化学气相沉积（HPD+RF-PECVD）法的优点有（）。
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高压耗尽射频等离子体增强化学气相沉积（HPD+RF-PECVD）法的优点有（）。
A．防止高能粒子对薄膜表面的破坏；
B．可使硅烷耗尽，抑制硅烷对原子氢的消耗，故能够提供足够高密度的原子态氢，从而大大降低薄膜缺陷态密度。
C．需要高的激发功率
D．所制备的薄膜中出现许多微空洞
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防止高能粒子对薄膜表面的破坏；;可使硅烷耗尽，抑制硅烷对原子氢的消耗，故能够提供足够高密度的原子态氢，从而大大降低薄膜缺陷态密度。